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纯臭氧水发生器（超高浓度/高纯度）400 mg/L

品牌：日本明电舍
介绍：开发了一种可以使用纯臭氧水实现的强大氧化促进方法，预计将在半导体工艺中用于去除高离子注入的光刻胶。
浓度：0.3～1.0升/分钟
特点：可产生臭氧水浓度高达400 mg/L或更高。
应用： 高离子浓度光刻胶去除的半导体晶圆

标签： 臭氧高浓度发生器

产品特点

  • 超高浓度
    使用纯臭氧气体（≒100%）和减压生成方法（申请中），通过独特的制造方法稳定地生产纯臭氧水，浓度高达400 mg/L或更高。※1）
    ※1 仅在特定条件下才能生成的最大浓度。
    • 超高浓度

  • 高纯度
    使用不含氧气或重金属等杂质气体的臭氧气体，实现高纯度。
    • 高纯度

  • 减压生成方法使得臭氧水在大气压下使用时，能够长时间保持其浓度而不迅速降低。
    • 纯臭氧水

    纯臭氧水

    持久专注

    持久专注


  • 我们的※2工艺技术
    开发了一种可以使用纯臭氧水实现的强大氧化促进方法，预计将在半导体工艺中用于去除高离子注入的光刻胶。
    ※2 用于自由基生成的臭氧水
    • 基于浓度的抗性去除率变化

  • 安全措施
    ・本设备在减压下生成臭氧气体和臭氧水。
    ・这是遵循POG培养的可靠设计思想的安全设备设计，即使在高纯度、低温、低压下也不会引起危险反应。
  • 标准认证
    ・国际安全标准※3 (SEMI-S2, UL, NFPA, CE, 等）
    ※3 计划在2024财年获得
  • 质量保证
    ・在向客户交付设备前，对设备的性能进行验证并在客户现场进行操作检查。
    ・通过第三方认证机构的痕量气体测试来证明安全性。


应用与解决方案

1. 高离子浓度光刻胶去除的半导体晶圆

2. 碳树脂和其他碳纤维的表面改性

３．除油和清洁工业产品

4. 索引颜料及其他粉末涂料材料的性能改进



产品规格

臭氧浓度0～400毫克/升
水温5～20℃
流量0.3～1.0升/分钟
纯度杂质浓度低于 ppt
臭氧水生成方法减压生成方法
操作方法批次类型（2024财年将发布连续型）
尺寸
（不包括突出部分）		低容量类型：W1,900×D1,000×H1,980毫米
高容量类型：W2,200×D1,000×H1,980毫米
质量低容量类型：1,345千克
高容量类型：1,501千克


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洗净/去除(灰化)方案

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