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洗净/去除(灰化)方案

半导体制造工程(高离子注入)的光刻胶灰化应用案例

 

洗净/去除(灰化)方案(图1)洗净/去除(灰化)方案(图2)洗净/去除(灰化)方案(图3)

效果

室温下高速度灰化

可以灰化各种半导体光刻胶

在高离子注入后灰化时不产生光刻胶爆裂



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