高纯臭氧正在进入哪些先进工艺？

目前，高纯臭氧主要应用于半导体高端工艺及相关研究领域，包括：

高介电常数材料（High-k）

例如：

• HfO₂

• ZrO₂

• La₂O₃

这些材料要求极低的碳、氮杂质含量，高纯臭氧具有明显优势。

先进逻辑器件

随着FinFET、GAA等新型晶体管结构的发展，栅极介质厚度不断降低。

薄膜中极少量杂质都可能影响器件性能，因此更高效的氧化方式越来越受到关注。

先进存储器

包括：

• DRAM

• 3D NAND

• 新型存储材料

这些工艺同样需要高质量氧化膜及高重复性的ALD过程。

新材料研发

越来越多高校和科研院所开始研究：

• Ga₂O₃

• In₂O₃

• IGZO

• 铁电HfO₂

• 稀土氧化物

这些研究也为高纯臭氧提供了新的应用空间。