为什么ALD氧化物薄膜需要臭氧

ALD沉积氧化物薄膜通常由两个交替反应步骤组成：

1.金属前驱体进入反应腔，与基底表面发生化学吸附。

2.吹扫残余前驱体后，通入氧化剂，与表面吸附物发生反应，去除有机配体并形成金属氧化物。

以金属有机前驱体为例，其分子中可能含有甲基、乙基、环戊二烯基或其他有机配体。

如果氧化反应不充分，部分有机基团可能残留在薄膜中，形成碳、氮等杂质，影响薄膜的电学性能和稳定性。

不同氧化剂的反应特点有所区别：

需要注意，高纯臭氧并不意味着所有ALD材料都必须使用80%wt以上的臭氧。实际选择取决于前驱体化学性质、沉积温度、表面反应机制和薄膜性能要求。